IT之家 12 月 27 日音信，DNP 大日本印刷当地技巧本月 12 日晓示，得胜在其光掩模成品上绘图了辅助 2nm 及以下 EUV 工艺的良好光掩模图案；同期该企业还完成了辅助 High NA EUV 光刻的光掩模的初步评估并已向生态和谐伙伴出样。

　　IT之家注：

　　在当代光刻系统中，光掩模上的“大图案”是在晶圆上的芯片电路“小图案”的模板。

　　DNP 在 2023 年完成了适用于 3nm 工艺的光掩模建立，而餍足 2nm 及以下工艺的光掩模不仅需要在直线图案尺寸上较 3nm 世代居品任性 20%，也需要在复杂度更为突显的弧线图案上完满同比例的尺寸压缩。

　　左侧为直线图案，右侧为弧线图案

　　DNP 这次得胜绘图良好图案，意味着其光掩模居品可餍足 2nm 及以下格式制程逻辑半导体的出产需求，为更高效逻辑芯片的曝光打下了基础。该企业筹议于 2027 财年（肇始于同当然年 4 月）完满 2nm 光掩模量产。

　　接头到 DNP 和 Rapidus 两边的和谐关联开yun体育网，DNP 的光掩模新品展望将用于 Rapidus 筹议于 2025 年 4 月运行的 2nm 试产线。